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故障預(yù)測(cè)技術(shù)在半導(dǎo)體設(shè)計(jì)中應(yīng)用
時(shí)間:2008-11-20 17:03:00來(lái)源:dujing


圖 2. 圖3. ESD 預(yù)測(cè)單元 [/align]
從圖3.看, ESD故障預(yù)測(cè)單元是和用戶(hù)的主電路在同一芯片器件里, 和主電路處在相同的環(huán)境下,環(huán)境包括過(guò)高壓、 過(guò)低壓、 瞬時(shí)毛刺、濕度、惡劣的溫度及輻射。 因此ESD單元能夠預(yù)測(cè)主電路的使用壽命,給出預(yù)測(cè)報(bào)警點(diǎn),但是它需要占用額外的芯片管腳。
3.2 熱載流子(HC)的故障預(yù)測(cè)
熱載流子容易在N溝道MOS管靠近漏極處在二氧化硅或硅處形成負(fù)電荷陷阱. 熱載流子效應(yīng)是MOS管的一個(gè)重要失效機(jī)理,是大家所不希望的. 熱載流子容易導(dǎo)致MOS管的Vt增加和Id減小.示意圖4和圖5.

圖6 HC單元示意圖 圖7. HC單元應(yīng)用圖 [/align]
如圖7.HC單元與主電路被放在一起,與主電路一樣受相同的外界應(yīng)力影響,這些外界應(yīng)力決定著芯片的壽命。當(dāng)主電路在測(cè)試方式下,這個(gè)單元將觸發(fā),進(jìn)入到預(yù)定的、連續(xù)的應(yīng)力和測(cè)試循環(huán),最終給出電路真正的壽命。
TDDB效應(yīng)的故障預(yù)測(cè)
TDDB效應(yīng)是由小幾何體, 多溝道,薄柵氧化層, NMOS 襯底注入引起的, 它容易造成噪聲增加,功耗增加,MOS管器件電參數(shù)不穩(wěn)定,如:闌值電壓漂移、跨導(dǎo)下降和漏電流增加等,甚至可引起MOS管失效。Ridgetop-Group TDDB 故障預(yù)測(cè)單元是利用和主電路在一起的利用JTAG 技術(shù)的TDDB物理單元加HALT 測(cè)試方法來(lái)實(shí)現(xiàn)的。
NBTI效應(yīng)的故障預(yù)測(cè)
NBTI效應(yīng)主要130納米及以下工藝中。當(dāng)柵源的電壓是負(fù)電壓,PMOS 容易發(fā)生NBTI效應(yīng)。在氧化硅和硅的界面處,負(fù)偏壓和/或溫度容易造成正阱,造成Vt 增加和Id的減少。造成電性的間歇性和失效, 導(dǎo)致芯片可靠性和壽命降低。Ridgetop-Group TDDB 故障預(yù)測(cè)單元是利用和主電路在一起的NBTI物理單元來(lái)實(shí)現(xiàn)的。
對(duì)于在半導(dǎo)體中的金屬遷移和輻射等效應(yīng),它們都在影響半導(dǎo)體壽命,有同樣類(lèi)似的單元來(lái)對(duì)金屬遷移和輻射效應(yīng)等進(jìn)行預(yù)測(cè),只是它們針對(duì)不同的目的,不同的問(wèn)題。這些單元與客戶(hù)的主電路隔離開(kāi),互不干擾,但它們實(shí)現(xiàn)了芯片內(nèi)部的自檢測(cè)試(BIST),達(dá)到要檢測(cè)的目的。對(duì)于這些效應(yīng)的預(yù)測(cè),請(qǐng)查閱Ridgetop Group 工作網(wǎng)站。
4 總結(jié)
故障預(yù)測(cè)技術(shù)是可以應(yīng)用在半導(dǎo)體設(shè)計(jì)中的,隨著最終用戶(hù)的要求越來(lái)越高,也要求芯片性能越來(lái)越高,如果能夠預(yù)測(cè)芯片的壽命,使系統(tǒng)維修和芯片的替換變得更容易、更簡(jiǎn)單。上述這些半導(dǎo)體效應(yīng)是不能避免的,但是它們是可以預(yù)知的, 因此故障預(yù)測(cè)技術(shù)可以應(yīng)用在半導(dǎo)體設(shè)計(jì)領(lǐng)域,將故障預(yù)測(cè)范圍縮小到芯片級(jí),避免重大惡性事故發(fā)生。
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