中國集成電路高端裝備自主化獲新突破

時間:2014-10-23

來源:網絡轉載

導語:目前,我國大規(guī)模集成電路生產線(8-12英寸)的芯片制造設備大量依賴進口,不僅嚴重影響我國集成電路產業(yè)發(fā)展,也對我國電子信息安全造成重大隱患。

由北方微電子公司自主研發(fā)的12英寸28納米等離子硅刻蝕機,已經全面通過中芯國際集成電路制造有限公司的生產線全流程工藝驗證。這標志著中國集成電路高端裝備自主化取得了新的突破。

等離子刻蝕機是在硅片表面實現三維精細加工的高端設備,是集成電路制造中最核心的裝備之一。當前,國際上進入量產的最高水平是28納米技術,相比40納米技術,可使集成電路的功耗更小、速度更快、成本更低,主要應用于CPU、存儲器、移動通信、數字音視頻等高端芯片產品。目前,國際上僅美國和日本各有一家企業(yè)能夠提供滿足28納米生產線的成熟設備。

由于技術門檻高,高端刻蝕設備成為長期制約我國集成電路產業(yè)發(fā)展的瓶頸。目前,我國大規(guī)模集成電路生產線(8-12英寸)的芯片制造設備大量依賴進口,不僅嚴重影響我國集成電路產業(yè)發(fā)展,也對我國電子信息安全造成重大隱患。

北方微電子28納米等離子硅刻蝕機通過自主創(chuàng)新,突破了精密等離子體控制、硅片表面溫度精確控制、高氣流均勻控制等多項關鍵技術,以全新的硬件設計達到了高速率、高均勻性、低損傷和低缺陷、精確尺寸和形貌控制、低顆粒污染等要求,多項關鍵指標達到國際先進水平。28納米刻蝕技術的突破,打破了國外對28納米集成電路生產設備的技術封鎖和市場壟斷,縮短了與國際先進水平的差距。

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