在2020年的今天,除了華為的海思以外,OPPO,VIVO,小米都在以不同的形式在投資芯片設(shè)計產(chǎn)業(yè),2019年12月10日,OPPO在深圳舉辦了一場未來科技大會,OPPO創(chuàng)始人兼CEO陳明永登場做了演講,他透露OPPO在2019年的研發(fā)總投入是100億人民幣。
未來三年(2020-2022年),OPPO總研發(fā)投入預(yù)計將達到500億人民幣,最重要的投入將會放在核心的硬件底層技術(shù)和軟件工程架構(gòu)。
而在2018年底陳明永的演講中,他說OPPO當年的研發(fā)投入是40億人民幣。
今年OPPO在大量招聘芯片設(shè)計人才在上海進行芯片研發(fā)。
其他公司如VIVO也招聘了不少芯片研發(fā)人員,而小米則更多是以股權(quán)投資的形式加碼國產(chǎn)芯片設(shè)計產(chǎn)業(yè)。以上都是在幾年前還不存在的情況,也充分說明了中國公司在越來越意識到芯片設(shè)計工作的重要性。
作為國內(nèi)主要的晶圓代工廠,中芯國際SMIC回歸A股只用了18天就過會了,創(chuàng)造了國內(nèi)紀錄,由此可見他們是多么地受重視,畢竟他們是僅有的一家量產(chǎn)了14nm工藝的國產(chǎn)晶圓廠。
與臺積電、三星等公司相比,中芯國際的14nm已經(jīng)晚了4-5年了,在7nm、5nm工藝上還有較大差距,依然要花大力氣彌補技術(shù)差距,這個難度很高,人才、設(shè)備及資金要求都有很高的門檻。
即便追上了7nm、5nm工藝,還有一個關(guān)鍵問題,那就是中芯國際還能研發(fā)出更先進的3nm、2nm工藝嗎?對于這個問題,國信證券的分析師看法并不樂觀。
根據(jù)他們的報告,7nm芯片設(shè)計成本超過3億美元,3nm開發(fā)出GPU設(shè)計成本達15億美元,能用到7nm工藝的產(chǎn)品和公司都很少。所以,既不會出現(xiàn)很多芯片設(shè)計公司遷移到7nm/5nm,也不會有代工廠再做7nm/5nm以下工藝,例如格羅方德、聯(lián)電已經(jīng)放棄7nm研發(fā)。
按照他們的分析,中芯國際以后是不會做7/5nm以下工藝的,不說技術(shù)問題,主要是沒市場了,對這類工藝有需求的公司越來越少,做這樣的工藝并不劃算,特別是臺積電、三星已經(jīng)具有優(yōu)勢的情況下,后來者追趕并不容易。
當然,不做3nm、2nm這樣的工藝,不代表中芯國際發(fā)展前景就不行了,事實上他們的地位只會加強,國信證券預(yù)計其市值能達到6500億元,這個數(shù)據(jù)可是目前其市值的6倍多。
目前中芯國際的兩個挑戰(zhàn):
第一個是大客戶困境
現(xiàn)在華為遭受制裁,那么根據(jù)美國的禁令,使用了美國設(shè)備的中芯國際也是不能為華為代工的,華為不僅是中芯國際的核心客戶,也是最先進14nm制程的最主要客戶,這會讓中芯國際在營收方面受到較大的影響。
當然,這對中芯國際來說,還是可以克服的,畢竟國內(nèi)芯片設(shè)計產(chǎn)業(yè)在蓬勃發(fā)展,而且華為海思的被制裁,也讓大量國產(chǎn)廠家感到唇亡齒寒,因此中芯國際是有大量的潛在客戶的。
第二個是美國制裁
我們在思維上還普遍認為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)界就是華為在被制裁,這是錯誤的。
首先我國三大存儲器項目之一的福建晉華項目就被美國制裁了,晉華現(xiàn)在就在美國的實體清單上,享受和華為一樣的待遇,而晉華項目現(xiàn)在也處于停滯的狀態(tài)。
而另外實際上,中芯國際受制裁比華為還早,或者說中芯國際現(xiàn)在已經(jīng)在被美國制裁了,只是形式表現(xiàn)不是以美國政府官方禁令的形式。
中芯國際在2018年向ASML采購的EUV光刻機本來應(yīng)該在2019年就到貨,但是因為美國的阻攔,至今未能到達中國,這其實就是對中芯國際的制裁,我們要清楚的認識到這一點。
我們估計EUV光刻機在短期內(nèi)到達中國的可能性很小,尤其是美國現(xiàn)在對中國越來越走向?qū)埂?/p>
也就是對中芯國際來說,其當前技術(shù)發(fā)展的上限已經(jīng)被美國鎖定在了7nm,再想往下就受制于EUV的光刻機了。
而中芯國際在梁孟松的帶領(lǐng)下,預(yù)計將在2021-2022年實現(xiàn)N+2工藝的量產(chǎn),也就是說從現(xiàn)在開始計算,中芯國際還有2年的時間就將達到自己技術(shù)能力的上限。
或者說我們保守一點,中芯國際2023年也會到達自己的技術(shù)上限。
那么中芯國際在下一步如果想繼續(xù)向前,那就必須要等待國產(chǎn)EUV光刻機登場了,而根據(jù)我國的中國制造2025規(guī)劃,攻克EUV光刻機的時間是在2030年,還要算產(chǎn)線驗證時間的話,還要再一兩年,那就得到2032年了。
那么這對中芯國際甚至對整個中國來說,將是非常尷尬的局面,這意味著如果不能獲取EUV光刻機的話,那么在2023—2032年長達10年的時間,芯片制程要停留在7nm。