01光刻機市場數(shù)據分析

光刻機毫無疑問是半導體器件制造中最重要的設備。其重要性不僅僅局限于工藝技術層面，還反映在其數(shù)量和產能的緊密關系上。

上圖是ASML公布過的一張不同產片和工藝節(jié)點在特定產能下對應需要的各種光刻機數(shù)量。雖然實際上由于不同的晶圓廠的技術路線和水平不同會造成單位產能所需的設備數(shù)量會有一定差異，但在數(shù)量級層面上這個數(shù)據具有非常高的參考性。所以當我們了解到各類光刻機的具體出貨數(shù)量，就可以大體推算出市場產能的變化情況。

目前全球能夠提供前道制造用光刻機的供應商一共只有三家：ASML、NIKON和CANON。所以我們只要統(tǒng)計這三家季報里公布的數(shù)據，就可以具體了解全球前道光刻機的出貨量(見下圖)：

由圖可見，2017年以后，全球光刻機的出貨量(臺數(shù))明顯持續(xù)增加，而且從數(shù)量上看，EUV和KrF的增量最為明顯。

參考上面ASML的產能/設備數(shù)量對應關系圖，我們可以明確感知到2017年以后先進工藝的迅猛發(fā)展態(tài)勢。這和我們之前整理的其它數(shù)據反映的現(xiàn)象邏輯上是非常吻合的。尤其是通過EUV光刻機的出貨數(shù)量，我們可以比較容易地推算7nm及以下先進制程的產能擴張情況，從而幫助我們了解和預測未來高端器件市場的走勢。

上圖是三家供應商分別的各類機臺具體出貨數(shù)量統(tǒng)計。由圖可知：

ASML：目前已經基本壟斷了ArF Dry、ArF i和EUV(100%)的市場。后續(xù)只要關注和研究其財報數(shù)據就可以幫助我們基本了解整個半導體市場的變化趨勢。

NIKON：雖然理論上有除了EUV以外的所有類型光刻機產品，但近年來其ArF相關的高端產品出貨量日趨萎縮，幾乎沒有市場份額。(其出貨的ArF光刻機里有相當一部分還是翻新機)

CANON：目前產品完全集中于特定工藝領域的i-Line和KrF設備。出貨量增長趨勢不錯，但沒有任何高端工藝用設備。

基于以上因素，所以我們在研究半導體市場的時候，可以基本集中于ASML公司一家的數(shù)據：

由上圖可見，ASML目前幾乎一半以上的營收來自于EUV光刻機。其不僅僅在數(shù)量上不斷增加，而且隨著技術和性能(套刻精度、生產效率等)的提升，其機臺的單價也迅速增長，幫助EUV成為公司最主要的利潤來源。

不過不論如何，ASML的光刻機營收占全球所有半導體設備市場的比例沒有明顯長期變化趨勢，整體維持在10~20%區(qū)間。而且這一比例在未來較長時間里也不會有其它變化。三家供應商主要機臺型號及參數(shù)表